新的等离子喷涂技术近年来，在等离子喷涂的基础上发展了几种新的等离子喷涂技术，如：真空等离子喷涂（又称低压等离子喷涂）是离子在真空（接近）条件下、处于4-40kpa且有惰性气体保护的密闭室内进行的喷涂技术。由于工作时，气体处于在膨胀过程中低压气体从喷枪中喷射，离子喷射速度超过一马赫，这种技术非常适合于对氧化高度敏感的材料。其主要特点是有惰性气体保护，减少氧化，喷射速度快等。

在水稳等离子喷涂诞生之前，等离子喷涂的工作时所使用的介质是气体，但这种技术工作时所使用的介质是液体而不是气体。它是一种大功率喷枪喷射高速水等离子喷涂方法。其工作原理是：高压水以切线的方式进入喷枪，在枪管内壁形成涡流。此时，枪体后部的阴极与枪体前部的旋转阳极之间形成一条直线，流动电弧使枪体内壁的水超高温（高达50000°）蒸发水为等离子体状态，产生连续的等离子体电弧。由于旋转涡流水的聚束效应，其能量密度增大，燃烧稳定。因此，它可以喷涂高熔点材料，尤其是氧化物陶瓷，具有非常高的喷涂效率。喷涂量约为每小时100公斤金属、30-60公斤陶瓷粉。